SiC,GaN加工技術展 2025に出展いたします。

会期: 2025年3月5日(水)～3月7日(金)

会場: 幕張メッセ

小間番号：S-27

出展内容：

• PPDE(プラズマ研磨ドライエッチング装置)
• 大型サンプル対応原子間力顕微鏡(AFM)
• 半導体材料のケミカルイメージングに特化したハイエンド共焦点ラマン顕微鏡

詳細はSiC,GaN加工技術展 公式サイトをご覧ください。